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SMEE
中国の国有リソグラフィ企業でASMLに対抗しうる唯一の国内勢。600シリーズDUVスキャナは90nmで量産中。HuaweiのSiCarrier構想と関連するスピンオフ企業「上海裕量晟（Yuliangsheng）」が、SMICで中国初の国産28nmクラス液浸DUVスキャナを試験中
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中国の国有リソグラフィ企業でASMLに対抗しうる唯一の国内勢。600シリーズDUVスキャナは90nmで量産中。HuaweiのSiCarrier構想と関連するスピンオフ企業「上海裕量晟（Yuliangsheng）」が、SMICで中国初の国産28nmクラス液浸DUVスキャナを試験中
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この企業について
QSMEEの半導体サプライチェーン上の役割は？
中国の国有リソグラフィ企業でASMLに対抗しうる唯一の国内勢。600シリーズDUVスキャナは90nmで量産中。HuaweiのSiCarrier構想と関連するスピンオフ企業「上海裕量晟（Yuliangsheng）」が、SMICで中国初の国産28nmクラス液浸DUVスキャナを試験中
▲国産最先端リソグラフィは90nm量産が上限。28nm液浸DUVの量産は2027年頃を目標。10nm以下は2030年以前には見込めない
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