Neon Gas (High-Purity)

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氖氣是工業空氣分離（主要發生在處理大量空氣以提取氧氣和氮氣的大型鋼鐵廠）中回收的微量惰性稀有氣體副產品。半導體級氖氣在混入ArF準分子光刻系統的雷射氣體混合物之前，必須達到99.999%或以上的純度。 在深紫外（DUV）光刻中，ArF準分子雷射器發射193nm光，用於曝光14nm至7nm節點（多重圖案化可至5nm）的晶圓光阻。雷射氣體混合物主要為氖氣（約95–97%），含少量氬氣和氟氣。每個雷射腔在運行過程中連續消耗和補充這種氣體混合物。大批量半導體晶圓廠每年可消耗數百公斤高純氖氣。 2022年前，烏克蘭兩家公司——Ingas（馬里烏波爾）和Cryoin Engineering（敖德薩）——合計供應全球估計45–70%的半導體級氖氣，利用的是烏克蘭大型鋼鐵工業富含氖氣的尾氣。2022年2月俄羅斯對烏克蘭的全面入侵立即關閉了馬里烏波爾工廠，並使敖德薩工廠面臨風險，引發了供應衝擊，幾週內氖氣現貨價格飆升超過500%。 這場危機催化了美國（Air Products、Linde、Messer）、德國和其他國家對替代氖氣純化產能的快速投資。至2023年底，供應多元化已大幅降低單一國家風險，儘管對於尚未完全重新認證替代供應商的晶圓廠而言，烏克蘭來源的氖氣仍占市場相當份額。ASML的DUV系統——全球5nm至28nm之間生產的絕大多數晶片依賴於此——仍是半導體級氖氣的主要需求驅動力。