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SMEE
中国国有光刻机龙头，是国内最接近ASML的企业；600系列DUV光刻机已在90nm量产；与华为SiCarrier计划相关的分拆企业上海裕量晟正在中芯国际测试中国首台国产28nm级浸没式DUV光刻机
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中国国有光刻机龙头，是国内最接近ASML的企业；600系列DUV光刻机已在90nm量产；与华为SiCarrier计划相关的分拆企业上海裕量晟正在中芯国际测试中国首台国产28nm级浸没式DUV光刻机
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关于该公司
QSMEE在AI芯片供应链中的角色是什么？
中国国有光刻机龙头，是国内最接近ASML的企业；600系列DUV光刻机已在90nm量产；与华为SiCarrier计划相关的分拆企业上海裕量晟正在中芯国际测试中国首台国产28nm级浸没式DUV光刻机
▲国产最先进光刻技术目前量产上限为90nm；28nm浸没式DUV量产目标约2027年；10nm以下预计2030年前无法实现
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