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SMEE
中國國有光刻機龍頭，是國內最接近ASML的企業；600系列DUV光刻機已在90nm量產；與華為SiCarrier計畫相關的分拆企業上海裕量晟正在中芯國際測試中國首台國產28nm級浸沒式DUV光刻機
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中國國有光刻機龍頭，是國內最接近ASML的企業；600系列DUV光刻機已在90nm量產；與華為SiCarrier計畫相關的分拆企業上海裕量晟正在中芯國際測試中國首台國產28nm級浸沒式DUV光刻機
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關於此公司
QSMEE在AI晶片供應鏈中的角色是什麼？
中國國有光刻機龍頭，是國內最接近ASML的企業；600系列DUV光刻機已在90nm量產；與華為SiCarrier計畫相關的分拆企業上海裕量晟正在中芯國際測試中國首台國產28nm級浸沒式DUV光刻機
▲國產最先進光刻技術目前量產上限為90nm；28nm浸沒式DUV量產目標約2027年；10nm以下預計2030年前無法實現
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